第213章 困难(2/2)

参会的的总经理何玉明有些尴尬，因为这场峰会如果说给集成电路制造和设计企业是一针鼓励的强心剂的话，对魔都微电子来说就是催命符。  

经过了连续五天的严谨讨论，大家都得出了一致结论，即使充分发挥三进制体系优势，也只能小范围规避制程落后的难点。  

现在是28n进制约等于14n进制，如果等世界主流进入10n内的时代，三进制体系至少也要进入20n者18n  

也就是说，现在是2016年，2020年的时候，国产光刻机最小加工制程要达到20n内。  

如果不能，那么转向三进制就是失败的，依然不能扭转落后局面。  

现在的90n刻机不行，即将出现的65n刻机也不行，需要的是40n者40n刻机才勉强能够达到14n艺。  

可是，何玉明敢保证，2020年前交付40n刻机吗？  

不仅是光刻机，还有进入了20n内制程时，对化工原料的要求也极大上升，国内能跟上吗？  

(本章完)